目前我國的試劑類規格基本上按純度(雜質含量的多少)劃分，共有高純、光譜純、基準、分光純、優級純、分析和化學純等7種。國家和主管部門頒布質量指標的主要優級純、分級純和化學純3種。

1.優級純(GR：Guaranteed reagent)

又稱一級品或保證試劑，99.8%，這種試劑純度Z高，雜質含量Z低，適合于重要精密的分析工作和科學研究工作，使用綠色瓶簽。

2.分析純(AR)

又稱二級試劑，純度很高，99.7%，略次于優級純，適合于重要分析及一般研究工作，使用紅色瓶簽。

3.化學純(CP)

又稱三級試劑，≥ 99.5%，純度與分析純相差較大，適用于工礦、學校一般分析工作。使用藍色(深藍色)標簽。

4.實驗試劑(LR：Laboratory reagent)

又稱四級試劑。

純度遠高于優級純的試劑叫做高純試劑(≥ 99.99%)。高純試劑是在通用試劑基礎上發展起來的，它是為了專門的使用目的而用特殊方法生產的純度Z高的試劑。它的雜質含量要比優級試劑低2個、3個、4個或更多個數量級。因此，高純試劑特別適用于一些痕量分析，而通常的優級純試劑就達不到這種精密分析的要求。

目前，除對少數產品制定國家標準外(如高純硼酸、高純的冰乙酸、高純氫氟酸等)，大部分高純試劑的質量標準還很不統一，在名稱上有高純、特純Extra Pure)、超純、光譜純等不同叫法。

除了上述四個級別外，目前市場上尚有： 

基準試劑(PT：Primary Reagent)：

專門作為基準物用，可直接配制標準溶液。

光譜純試劑(SP：Spectrum pure)：

表示光譜純凈。

但由于有機物在光譜上顯示不出，所以有時主成分達不到99.9%以上，使用時必須注意，特別是作基準物時，必須進行標定。

根據高純試劑工業專用范圍的不同，可將其分為以下幾種： 

1.光學與電子學專用高純化學品

即電子級試劑(EIectronicgrade)試劑。

2.金屬-氧化物-半導體(Metal-Oxide-Semiconductor)電子工業專用高純化學品

即UP-S級或MOS試劑(讀作：摩斯試劑)。一般用于半導體，電子管等方面，其雜質Z高含量為0.01-10ppm，有的可降低到ppb數量級，金屬雜質含量小于1ppb，塵埃等級達到0-2ppb，適合0.35—0.8微米集成電路加工工藝。

3.單晶生產用高純化學品。

4.光導纖維用高純化學品。

此外，還有儀分試劑、特純試劑(雜質含量低于1/1000000～1/1000000000級)、特殊高純度的有機材料等。

5.等離子體質譜純級試劑(ICP-Mass Pure Grade)

絕大多數雜質元素含量低于0.1ppb，適合等離子體質譜儀(ICP Mass)日常分析工作。

6.等離子體發射光譜純級試劑(ICP Pure Grade)

絕大多數雜質元素含量低于1ppb ，適合等離子體發射光譜儀(ICP)日常分析工作。

7.原子吸收光譜純級試劑(AA Pure Grade)

絕大多數雜質元素含量低于10 ppb ，適合原子吸收光譜儀(AA)日常分析工作。